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产品技术
隧穿氧化/多晶硅沉积
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统
祝融系列ZR5000×3管式 PEALD/PECVD集成镀膜平台延伸祝融系列概念，一体式设计实现氮化硅正膜、氧化铝/背膜、氧化硅/多晶硅钝化膜一站式完成，可实现单道产能翻倍，节省占地面积。ZR5000×3兼具先进的制造执行管理系统（MES）和自动导引车（AGV）对接功能。在提供超高产能的同时，最大程度降低设备的运营成本，为后PERC高效电池技术提供理想可靠的量产解决方案，引领光伏产业化高效电池制造。
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产品特点
用于 PERC, TOPCon, XBC等高效电池技术路线的应用
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搭配高载片量的石墨舟设计
2
具备优异的薄膜厚度均匀性
3
精准制备薄膜：Al₂O₃, SiO₂, poly-Si(n+), poly-Si(p+), SiNx/ SiC/ SiON 等
4
提供 PERC/ TOPCon 量产工艺 PEALD/ PECVD 路线集成技术
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