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    CN
    创新驱动
    以原子层沉积（ALD）技术为核心
    化学气相沉积（CVD）等多种真空薄膜技术梯次发展

    原子层沉积 (ALD)技术：

    可在复杂形貌上完成可控制在原子层精度的高质量薄膜沉积

    具有：

    三维共形性，广泛适用于不同形状的基底

    大面积成膜的均匀性，且致密、无针孔

    可实现亚纳米级的薄膜厚度控制

    精确控制纳米叠层和原子掺杂比例

    视频播放

    研发创新

    20%

    +

    研发投入/营收

    56200

    ㎡

    生产研发基地

    3000

    +

    专有技术（项）

    35%

    +

    研发人员占比

    核心技术团队

    专业团队

    行业权威，拥有数十年ALD+CVD应用开发经验

    工艺开发

    团队工艺开发经验丰富，已开发应用数10种氧化物，氮化物，金属等材料

    专精ALD厂商

    专业ALD

    专注ALD工艺和应用场景，涵盖半导体、新型显示、新能源等行业

    专业解决方案

    针对客户不同需求，专业化和定制化提出解决方案

    国内领先前瞻应用定制化

    前瞻应用

    精通ALD前瞻应用，满足客户各类先进性产品的需求

    定制开发

    精通ALD工艺及应用场景，为客户定制化开发可量产的工艺及设备

    国内唯一全场景Demo设备线

    全场景Demo

    全场景Demo经验丰富，为客户提供全方位解决方案支持

    量产经验

    在逻辑、存储、化合物半导体等领域经过量产验证，并获得重复订单

    智造创新

    我们推行精益生产管理，搭建智能制造协同平台（简称MES），采用Smart Lable等智能工厂物流系统，实现了生产计划排程、生产进度实时分析、生产资源有效分配、 产品质量安全追溯等，进一步缩短采购周期、提升生产效率、降低经营成本，以数字化、智能化制造赋能创新发展。

    半导体设备规划产能

    总面积≈5000㎡，共三期
    年产能：140套

    光伏设备规划产能

    总面积≈20000㎡
    月产能：ALD主机+自动化，40台
    扩散/poly/退火/ALD/管P，60台

    服务创新

    我们始终坚持以客户为中心的服务理念，发挥本土供应商的优势，为客户提供量身定制的全方位服务，持续帮助客户优化系统性能，减少成本，快速响应市场需求。
    提供专用/定制工具
    1/7
    质保期内365天*24小时技术支持
    2/7
    立即响应客户端需求，重大疑问2小时内给出解决方案，24小时内到达现场处理
    3/7
    客户端设立备件库，关键/易损部件备货100%，非常规件到达现场<36小时
    4/7
    质保结束后，每年现场协助客户设备巡检2次，软件终身免费升级
    5/7
    项目有专职工程师跟踪服务，专业专一
    6/7
    长期保存图纸，20年零部件供应，解决后顾之忧
    7/7
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